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微波等離子體CVD

人造鉆石培育系統

CVD diamond system
真空應用解決方案提供商
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CVD diamond growing system CVD人造鉆石培育系統

      CVD培育鉆石是一種由直徑10到30納米鉆石晶體合成的多結晶鉆石,它的化學成分為碳,運用先進的設備模擬大自然中鉆石生長環境,通過化學氣象沉積技術(CVD)栽種而成。

      該系統采用微波等離子體CVD技術,使天然氣和氫氣加熱后,在壓力室內形成碳等離子體,該等離子體不斷沉積在壓力室底部的碳底層上,逐漸積聚和硬化,形成鉆石薄片。

      通過等離子增加前驅體的反應速率,降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態好的高質量硬質薄膜和晶體。

      HCVAC等離子技術解決了傳統等離子技術的局限,可以在10mbar到室壓范圍內激發高穩定度的等離子團,減少因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動引起的等離子體狀態的變化,確保單晶生長的持續性,為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。

應用范圍
高品質單晶金剛石、多晶金剛石的批量生長(大尺寸寶石級單晶鉆石、高取向度金剛石晶體、納米結晶金剛石、碳納米管/類金剛石碳(DLC))。
同時適用于其它硬質材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉積和晶體合成。
多種薄膜的CVD制備、材料表面處理和改性、低溫氧化物的生長等。
適合光學、電子、工具級金剛石膜或單晶、石墨烯等的產業化生產,材質表面處理、低溫氧化物的生長等。

Product Advantage.

產品特點
CVD人造鉆石培育系統包括以下關鍵功能:
  • 純凈

    潔凈,無污染,均勻分布

  • 高純度

    VVS級別以上

  • 穩定易控

    單晶生長不被干擾中斷

  • 模塊化

    滿足從實驗到工業不同需要

  • 適溫

    運載氣體保持合適溫度

  • 自動化

    全自動工藝控制模塊

型號 HCCVD-D
電源 AC380±10% V 三相五線制 50Hz,額定輸入<18KVA
微波輸出功率 0.5~6kW 連續可調
功率穩定度 1%(@穩態)
紋波 ≤1%
微波頻率 2450MHz±50MHz
測溫方式 紅外300~1400℃
極限真空度 6×10-6torr
腔體內工作壓力 7torr~250torr
樣品臺 Φ60mm
樣品臺軸向調節范圍 0-60mm
工作氣氛 五路(可用戶定制)
微波泄漏值 <5mW/cm2
工作環境 溫度15-40℃,相對濕度≤60%,無腐蝕性氣體
冷卻水  >37L/Min

Application cases.

應用案例
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電話:13316689188

郵箱:office@hcvac.com

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