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HCINLINE系列

AR+DLC+AS硬膜技術

AR+DLC+AS hard coating Technology
真空應用解決方案提供商
首頁 > 鍍膜線設備 > AR+DLC+AF連續鍍膜生產線
AR+DLC+AF continuous magnetron sputtering coating line AR+DLC+AF連續鍍膜生產線

     該設備通過磁控濺射方式鍍制DLC硬膜,莫式硬度大于8,鉛筆硬度大于9H,薄膜硬度接近于藍寶石玻璃,薄膜透過率大于99.4%,鋼絲絨耐磨(@1KG 10mm×10mm>8000次)無劃痕,橡皮擦+酒精耐磨>5000次無損傷,可與AF有效良好結合。

      該系列設備具備多種DLC涂層沉積技術,模塊化的涂層設備設計,可根據客產品應用需求,單獨或組合過濾陰極電弧,閉合場磁控濺射,PACVD和離子源技術模塊于DLC沉積設備,適用于多種科學研究,產品開發和批量生產的要求。技術先進,操作方便,能量消耗少,綠色環保等特點,廣泛應用于機械,電子,光學,能源,裝飾等領域。

      HCVAC開發的DLC涂層,具有良好的附著性,高的硬度和耐磨性,低的摩擦系數,低的表面粗糙度,能在多種金屬與合金工模具或零件表面沉積DLC涂層。獨特的低溫涂層技術,還能適用于在塑膠等不耐高溫的材料上沉積DLC涂層。

      DLC涂層具有較高的硬度、優異的減摩耐磨性能、高熱導率、低介 電常數、寬帶隙、良好的光學透過性以及優異的化學惰性和生物兼容性等,在航空航天、機械、電子、光學、裝飾外觀保護、生物醫學等領域有著廣闊的應用前景。DLC涂層適合于磨損和滑動的環境下,在沒有任何潤滑介質的條件下,可以降低摩擦損耗,可以用于汽車發動機零部件(燃油噴射系統、動力傳動系統)、軸承、滾輪、紡織機械、航空航天等眾多領域。


優勢:

?采用閉環控制器的高反應濺射率
?出色的氣體分離技術
?靈活配置以滿足特定的生產需求
?3、5或7倍微調氣體分布以提高涂層均勻性
?優化的磁性配置,具有出色的均勻性和利用率
?兼容工業機器人的自動裝卸

Product Advantage.

產品特點
HCINLINE系列AR+DLC+AS連續磁控濺射鍍膜線包括以下關鍵功能:
  • 立式

    垂直系統配置,粒子碰撞最低

  • DLC

    耐用類金剛石涂層鍍膜

  • 溫控

    基板表面進行卓越的溫度控制

  • 模塊化

    多種工藝技術靈活組合

  • 開放

    在軌道系統上完全打開垂直腔室

  • 一致性

    整個腔室中均勻的鍍膜沉積速率

項目 性能
最高工作溫度 550℃
技術特點 PMAⅡ
AEG
HIPIMS
預處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
陰極 D120 / D160 / W125
真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
設備配置 磁懸浮分子泵
脈沖偏壓電源
PC智能控制系統
備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當減小
在線服務支持系統
您想要了解更多嗎?

電話:13316689188

郵箱:office@hcvac.com

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