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技術(shù)與服務(wù)
公司自行研發(fā)設(shè)計、加工的新型中頻圓柱旋轉(zhuǎn)陰極，提高靶材利用率，降低生產(chǎn)成本。
有效防止擋板閥外表面出現(xiàn)冷凝水現(xiàn)象，提高設(shè)備的可靠性并延長使用壽命，使設(shè)備安全運行。
與傳統(tǒng)的速度張力控制相比結(jié)構(gòu)簡單，控制方便，后期維護(hù)成本的減少，運行可靠性能穩(wěn)定。
可對鍍膜前的基材進(jìn)行預(yù)清洗，提高成膜附著力，工作模式包括聚焦模式和散焦模式。
確保工藝氛圍均勻性。
傾斜式箱體設(shè)計實現(xiàn)了基片在裝卸過程中無夾具印，解決了大型超薄基片裝夾過程中的扭曲問題。
無水電引入系統(tǒng)的新型插板閥，減少故障發(fā)生率，提高生產(chǎn)效率。
從工廠現(xiàn)場自動化設(shè)備中采集實時運行狀態(tài)、運行參數(shù)、加工信息和質(zhì)量信息，并傳輸?shù)奖O(jiān)控終端分解成用戶所需要的報表、圖表和可視化界面形式顯示，使生產(chǎn)管理人員能及時監(jiān)控生產(chǎn)設(shè)備的運行狀況和能力，合理安排生產(chǎn)及時調(diào)度，保障生產(chǎn)設(shè)備處于最佳狀態(tài)，生產(chǎn)順利、有序、高產(chǎn)、低耗進(jìn)行。
通過等離子體發(fā)射光譜監(jiān)測來控制氣體流量和電壓，控制優(yōu)化反應(yīng)濺射的狀態(tài)，從而獲得最佳的沉積速率與膜層質(zhì)量。
可靈活改變工藝配置，適應(yīng)各種鍍膜要求。
HCVAC-PVD
